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巨偉鈦業(yè)常年供應(yīng)鈦合金鍛件、鈦合金棒、鈦合金加工件、鈦合金異形件、鈦靶材、鈦合金法蘭、鈦環(huán)、鈦合金螺絲、鈦合金管、鈦合金方塊等。

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現(xiàn)貨供應(yīng)鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

現(xiàn)貨供應(yīng)鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

2022-10-13   瀏覽次數(shù)：125

產(chǎn)品名稱：鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產(chǎn)品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶材質(zhì)國內(nèi)牌號：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...
巨偉鈦業(yè)談鈦靶鋯靶等常用靶材的種類與行業(yè)發(fā)展前景

巨偉鈦業(yè)談鈦靶鋯靶等常用靶材的種類與行業(yè)發(fā)展前景

2022-10-13   瀏覽次數(shù)：120

1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，電子派射耙材可以分為半導(dǎo)體靶材、平面靶材、鍍...
鈦鎳鋯濺射靶材的應(yīng)用及發(fā)展前景

鈦鎳鋯濺射靶材的應(yīng)用及發(fā)展前景

2022-10-09   瀏覽次數(shù)：133

濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...
巨偉鈦業(yè)定制TA1/TA2鈦靶 702/705鋯靶 鉻靶材 規(guī)格全 批量價優(yōu)

巨偉鈦業(yè)定制TA1/TA2鈦靶 702/705鋯靶 鉻靶材 規(guī)格全 批量價優(yōu)

2022-09-22   瀏覽次數(shù)：110

一、產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦靶牌號：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 廠家：巨偉鈦業(yè)主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質(zhì)含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)密度：4.51或4.50圓靶...
鉬合金濺射靶材的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢

鉬合金濺射靶材的研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢

2022-09-22   瀏覽次數(shù)：156

鉬屬于難熔金屬，體心立方結(jié)構(gòu)，具有導(dǎo)電導(dǎo)熱性好、熱膨脹系數(shù)低、耐腐蝕性好及環(huán)境友好等優(yōu)點，鉬薄膜的比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的一半，因此，由鉬及鉬合金制備的濺射靶材已廣泛應(yīng)用于...
磁控濺射鈦靶材的性能要求 制備技術(shù) 發(fā)展展望

磁控濺射鈦靶材的性能要求 制備技術(shù) 發(fā)展展望

2022-08-11   瀏覽次數(shù)：211

目前，我國已發(fā)展成世界鈦工業(yè)大國，鈦產(chǎn)能與產(chǎn)量均位居世界首位，然而國內(nèi)鈦材的整體技術(shù)含量較低、產(chǎn)品附加值低、產(chǎn)能嚴(yán)重過剩，鈦工業(yè)面臨"大而不強"的處境，加大鈦材深加工及開發(fā)...
寶雞鈦鎳鋯靶材廠家談濺射靶材的種類、制備、應(yīng)用領(lǐng)域

寶雞鈦鎳鋯靶材廠家談濺射靶材的種類、制備、應(yīng)用領(lǐng)域

2022-08-03   瀏覽次數(shù)：147

濺射工藝屬于物理氣相沉積技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。在電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過程中，金屬薄膜的制備十分重要。濺射工藝?yán)秒x子源產(chǎn)生的離子，在真空中加速聚...
鎢鉬鉭鈮濺射靶材的應(yīng)用及制備技術(shù)

鎢鉬鉭鈮濺射靶材的應(yīng)用及制備技術(shù)

2022-08-02   瀏覽次數(shù)：315

前言磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來制備薄膜材料的一種主要方法[1]。它的基本原...
巨偉鈦業(yè)現(xiàn)貨供應(yīng)鈦靶材 鋯靶 鉻靶塊

巨偉鈦業(yè)現(xiàn)貨供應(yīng)鈦靶材 鋯靶 鉻靶塊

2022-06-20   瀏覽次數(shù)：109

一、產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦靶牌號：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 廠家：巨偉鈦業(yè)主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質(zhì)含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)密度：4.51或4.50圓靶...
定制TA1/TA2鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

定制TA1/TA2鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶

2022-05-31   瀏覽次數(shù)：118

產(chǎn)品名稱：鈦靶材 鈦板靶 鈦管靶 鈦平面靶產(chǎn)品名稱鈦及鈦合金靶塊形狀圓靶塊，方靶塊，靶板，管靶材質(zhì)國內(nèi)牌號：TA1、TA2、TA3、TA7、TA9、TA10、TC4、TC4ELI、TC6、TC9、TC10、TC11...
電子行業(yè)用高純金濺射靶材研究綜述

電子行業(yè)用高純金濺射靶材研究綜述

2022-05-31   瀏覽次數(shù)：151

電子工業(yè)經(jīng)歷了由電子管、半導(dǎo)體集成電路及超大規(guī)模集成電路的發(fā)展歷程，對人類社會的各個方面帶來革命性的沖擊。在集成電路的制程中，各類元件如二極管、三極管、電阻器及電容...
濺射鈦靶材的技術(shù)及性能要求介紹

濺射鈦靶材的技術(shù)及性能要求介紹

2022-04-30   瀏覽次數(shù)：158

磁控濺射是制備薄膜材料的關(guān)鍵技術(shù)，而鈦靶材是這項技術(shù)中需要使用的鍍膜材料?，F(xiàn)在很多行業(yè)，如集成電路，裝飾鍍膜行業(yè)、平面顯示等都需要用到磁控濺射技術(shù)，這些行業(yè)對于產(chǎn)品的質(zhì)...
金屬靶材的主要類型與鈦鎳鋯靶材的應(yīng)用現(xiàn)狀

金屬靶材的主要類型與鈦鎳鋯靶材的應(yīng)用現(xiàn)狀

2022-04-01   瀏覽次數(shù)：176

p>1、靶材主要種類與用途分析 濺射工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種， 是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一。按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，電子派射耙材可以分為半導(dǎo)體靶材、平面靶材...
磁控濺射鈦靶材的性能要求與制備技術(shù)

磁控濺射鈦靶材的性能要求與制備技術(shù)

2022-03-16   瀏覽次數(shù)：225

目前，我國已發(fā)展成世界鈦工業(yè)大國，鈦產(chǎn)能與產(chǎn)量均位居世界首位，然而國內(nèi)鈦材的整體技術(shù)含量較低、產(chǎn)品附加值低、產(chǎn)能嚴(yán)重過剩，鈦工業(yè)面臨"大而不強"的處境，加大鈦材深加工及開發(fā)...
定制N6鎳靶 鍍膜鎳靶材 鎳靶塊 濺射鍍膜鎳多弧靶 規(guī)格全

定制N6鎳靶 鍍膜鎳靶材 鎳靶塊 濺射鍍膜鎳多弧靶 規(guī)格全

2022-03-01   瀏覽次數(shù)：175

名稱：鎳靶、鎳多弧靶、鎳平面靶板、鎳旋轉(zhuǎn)靶管牌號：N6、N4用途：鎳靶用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等行業(yè)。...
磁控濺射金基合金靶材的制備及發(fā)展趨勢

磁控濺射金基合金靶材的制備及發(fā)展趨勢

2022-02-16   瀏覽次數(shù)：176

引言 磁控濺射技術(shù)利用電子源產(chǎn)生 電子，其在真空 中通過加速聚焦形成高速能量粒子束轟擊固體表面(靶材)，被激發(fā) 出來的原子沉積在基底表 面形成覆膜 。該技術(shù)具有成膜致密度高...
等離子噴涂技術(shù)在濺射靶材制備中的應(yīng)用

等離子噴涂技術(shù)在濺射靶材制備中的應(yīng)用

2021-12-13   瀏覽次數(shù)：187

近年來，隨著全球經(jīng)濟技術(shù)的高速發(fā)展，產(chǎn)品的多功能化和輕便化的不斷推進，使得薄膜科學(xué)的應(yīng)用日益廣泛。而濺射靶材作為鍛膜產(chǎn)業(yè)的基本耗材， 其制備技術(shù)也得到了長足發(fā)展 。濺射薄...
現(xiàn)貨供應(yīng)鉻靶 鉻板靶 鉻旋轉(zhuǎn)靶 鉻多弧靶 真空鍍膜鉻靶材

現(xiàn)貨供應(yīng)鉻靶 鉻板靶 鉻旋轉(zhuǎn)靶 鉻多弧靶 真空鍍膜鉻靶材

2021-12-05   瀏覽次數(shù)：232

產(chǎn)品名稱：高純度旋轉(zhuǎn)鉻靶材 真空濺射鉻靶材產(chǎn) 地：陜西寶雞材 質(zhì)：Cr純 度：99.99%晶 粒 度：<100um規(guī)格：可以按照用戶需要定制。應(yīng)用領(lǐng)域：鉻靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,L...
國內(nèi)外磁控濺射鈦靶鎳靶鋯靶材的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

國內(nèi)外磁控濺射鈦靶鎳靶鋯靶材的現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

2021-12-02   瀏覽次數(shù)：408

1842年格波夫在實驗室中發(fā)現(xiàn)了陰極濺射現(xiàn)象，由于人們對濺射機理缺乏深入了解和濺射薄膜技術(shù)發(fā)展緩慢，商業(yè)化的磁控濺射設(shè)備直到1970年才逐漸應(yīng)用于實驗室和小型生產(chǎn)。自20世紀(jì)...
鎢靶鉭靶鈮靶等難熔金屬濺射靶材的應(yīng)用及制備技術(shù)

鎢靶鉭靶鈮靶等難熔金屬濺射靶材的應(yīng)用及制備技術(shù)

2021-11-16   瀏覽次數(shù)：158

前 言 磁控濺射鍍膜屬于物理氣相沉積，離子在電場加速下高速轟擊陰極靶材，靶材原子被濺射出來后沉積到被鍍膜體表面而形成薄膜，是用來制備薄膜 材料的一種主要方法[1]。它的基本...
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